Te dice que la densidad es 200 veces mayor, por otra parte la energía necesaria para crear un par iónico es diez veces menor que para la cámara de ionización (alrededor de 3 eV frente a unos 33 eV)
Ésta también ya había salido!!
Está resuelta por el foro de años anteriores. Tienes que multiplicar por 10 el 200 por el orden de magnitud de diferencia que hay entre ionizacion en aire (34 eV) y creación de par e-h en semiconductores. Y ya está.